Centre canadien de fabrication de dispositifs photoniques

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Le Centre canadien de fabrication de dispositifs photoniques (CCFDP) est un « guichet unique » pour des services d'ingénierie et de fabrication de classe internationale, pour la fabrication de prototypes de qualité commerciale et pour des installations de projets pilotes de production.

George Ross
Téléphone : 613-949-3717
Courriel George.Ross@nrc-cnrc.gc.ca

Industries ciblées

  • photonique
  • électronique à large bande interdite

Installation de recherche

Survol de l’installation de recherche

Researcher inside one of the CPFC facilities

Researcher inside one of the CPFC facilities

Nous offrons des services de fonderie pour un seul procédé ou la fabrication complète de dispositifs photoniques, de circuits intégrés et de composants électroniques au nitrure de gallium. Le CCFDP peut également développer de nouveaux procédés pour les dispositifs de ses clients.

Ce que nous offrons

À partir de plaquettes fournies par le CCFDP ou le client, notre équipe de concepteurs expérimentés examine les besoins des clients et leur propose une structure de plaquette et un procédé de fabrication appropriés pour créer des dispositifs ayant le rendement nécessaire pour leur application. Nous pouvons nous servir de masques photographiques fournis par les clients ou développer une série de masques pour toutes les étapes de fabrication. On emploie un système d'exécution de fabrication spécialisé pour recueillir les données et contrôler les matériaux pendant la fabrication. Cela permet de s'assurer que toutes les plaquettes fabriquées sont entièrement caractérisées et qu'elles répondent aux spécifications nécessaires. Pour les composants électroniques au nitrure de gallium, le CCFDP offre une trousse de conception GaN500 basée sur le logiciel ADS, dans laquelle on trouve une description du service de fabrication, et qui comprend un manuel de conception et une trousse de conception physique. Les dispositifs sont fabriqués avec une longueur de grille de 0,5 micron sur des substrats SiC.

Nous possédons une installation entièrement équipée de 40 000 pi ca, avec des salles propres de classe 1000/100 occupant une superficie de 11 000 pi ca. Ces installations offrent une série complète de procédés clés et d'activités auxiliaires connexes, comprenant :

Dépôt par PVD
  • Vaporisation de métaux
  • Évaporation par faisceaux d'électrons
  • Revêtements diélectriques (AR et HR)
Lithographie
  • Optique ­ pas à pas par projection (stepper), et contact (incluant l'alignement à face arrière)
  • Faisceau électronique à écriture directe
  • Nanoimpression (pas à pas et éclair)
  • Holographie
Gravure par plasma
  • Gravure par plasma HD du silicium, des oxydes et des matériaux III-V
  • Gravure ionique réactive(RIE) d'oxydes et de nitrures
Traitement de fin de procédé
  • Amincissage et polissage de plaquettes, jusqu'à < 100 um d'épaisseur
  • Dépôt par pulvérisation et recuit thermique de métaux en face arrière
  • Rainurage et clivage (incluant la face avant sans contact)
  • Sciage
  • Polissage et revêtement de facettes

Pourquoi travailler avec nous

Nous offrons des services d'experts-conseils d'évaluation/analyse par tierce partie de plaquettes fabriquées, aux entreprises produisant des plaquettes à l'interne ou qui les font fabriquer par une autre entreprise.

Nos experts ajoutent de la valeur en aidant les clients à faire le diagnostic des problèmes de matériaux et de fabrication à l'aide d'un vaste éventail d'essais et de mesures. Une fois que nous avons identifié un problème de fabrication, nous travaillons avec le client et lui proposons les mesures nécessaires pour corriger le problème. Nous pouvons également aider le client en remaniant les plaquettes dans nos installations et/ou en faisant des travaux additionnels au CCFDP pour améliorer le procédé avec le client.

Personne-ressource

George Ross
Téléphone: 613-949-3717
CourrielGeorge.Ross@nrc-cnrc.gc.ca