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Spectroscopie de photoélectrons XPS

La spectroscopie de photoélectrons XPS est utilisée pour sonder les espèces chimiques présentes aux surfaces. Dans cette technique les atomes de surfaces sont exposés au à une source de rayons X qui cause l’éjection de photo-electrons d’énergie caractéristique. La présence d’espèces atomiques est révélée par l’observation de pic de photo-émission caractéristiques de ces éléments. La liaison chimique entre les atomes peut quant a elle être déterminée par le décalage des lignes de photo-émission dans le spectre XPS. La profondeur de l’échantillonnage avec cette technique est généralement de l’ordre de 0,5-5 nm et la limite de détection est d’environ 0,1 % en concentration. L’information élémentaire et chimique sur les éléments de nombre atomique Z>3 peut être obtenue.

L’institut utilise un système Physical Electronics 5500 XPS. L’instrument utilise une source de rayons X Al Ka et un analyseur électrostatique hémisphérique. Il est équipe d’un canon d’ions duoplasmatron (Ar, 1-4KVm ~10-200nA) pour le profilage de la profondeur par érosion ionique superficielle. L’instrument est utilisé pour étudier les états chimiques et la composition des espèces en surface, principalement pour les semi-conducteurs, mais aussi pour les composés organiques.

Nom de l'édifice:

Édifice A.G.L. McNaughton

Numéro de l'édifice:

M-50

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