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Jean Lapointe
Téléphone : 613-991-2613
Télécopieur : 613-990-0202
Courriel : Jean.Lapointe@nrc-cnrc.gc.ca
Système de photolithographie sans masque
Le système de photo-lithographie sans masque est un outil de recherche versatile qui nécessite simplement le fichier électronique du modèle à transférer à la résine photosensible. Un appareil de lithographie directe SF-100 de Intelligent Micro-patterning est disponible pour utilisation dans les laboratoires de nanofabrication. Le système permet la reproduction de structures relativement larges (10 µm environ) rapidement et facilement. L’éclairage UV émis par une lampe au mercure reflète sur un dispositif a micro-miroirs numérique (DMD) programmé pour reproduire le fichier électronique. L’image reflétée (lumière UV) est ensuite focalisée sur l’échantillon. La taille maximale du champ (pour une résolution de 10 µm) est de 4x5 mm, avec la capacité de lier les champs adjacents et ainsi la configuration de surfaces allant jusqu’a 150 mm X 150 mm. L’alignement à des structures déjà configurées est possible.
