Gouvernement du Canada
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Possibilités d'affaires et services

Fabrication de matériaux semiconducteurs

Nanofabrication

  • 4,000 pi2 de salles blanches (classes 10,000/1000)
  • Lithographie directe par faisceau d'électrons – JEOL 6000 FS/E
  • Lithographie optique avec contact – Karl Suss MJB3
  • Lithographie optique sans masque – Intelligent Micro-Patterning SF-100
  • ICP-RIE - Oxford Instruments PlasmaLab 100
  • CAIBE - Oxford Instruments IonFab 300
  • PECVD - Oxford Instruments PlasmaLab 100 & PlasmaTherm
  • Dépositions de métaux : thermique, faisceau d'électrons et pulvérisation – e.g. Edwards Auto-306
  • RTA – AG Associates 410, Jipelec JetFirst
  • Clivage, amincissement et montage de fils
  • MBE - Hitachi 4700FE & JEOL 6400FE
  • AFM – Pacific Nanotechnology
  • Ellipsomètre VASE - Variable angle spectroscopic ellipsometry – Woollam
  • Mesures de stress – Tencor
  • Système de collage de dispositifs semi--automatique – Laurier M9

Nom de l'édifice:

Édifice A.G.L. McNaughton

Numéro de l'édifice:

M-50

Information pertinente

Instituts: