Nanofabrication
- 4,000 pi2 de salles blanches (classes 10,000/1000)
- Lithographie directe par faisceau d'électrons – JEOL 6000 FS/E
- Lithographie optique avec contact – Karl Suss MJB3
- Lithographie optique sans masque – Intelligent Micro-Patterning SF-100
- ICP-RIE - Oxford Instruments PlasmaLab 100
- CAIBE - Oxford Instruments IonFab 300
- PECVD - Oxford Instruments PlasmaLab 100 & PlasmaTherm
- Dépositions de métaux : thermique, faisceau d'électrons et pulvérisation – e.g. Edwards Auto-306
- RTA – AG Associates 410, Jipelec JetFirst
- Clivage, amincissement et montage de fils
- MBE - Hitachi 4700FE & JEOL 6400FE
- AFM – Pacific Nanotechnology
- Ellipsomètre VASE - Variable angle spectroscopic ellipsometry – Woollam
- Mesures de stress – Tencor
- Système de collage de dispositifs semi--automatique – Laurier M9
Nom de l'édifice:
Édifice A.G.L. McNaughton
Numéro de l'édifice:
M-50
Information pertinente
Instituts: