Liens de la barre de menu commune
Information pertinente
Instituts et programmes
- Centre canadien de fabrication de dispositifs photoniques du CNRC
- Centre de technologie des transports de surface du CNRC
- Conseil national de recherches Canada
- Initiative en génomique et en santé du CNRC
- Institut de recherche aérospatiale du CNRC
- Institut de recherche en construction du CNRC
- Institut de technologie de l'information du CNRC
- Institut des sciences des microstructures du CNRC
- Institut du biodiagnostic du CNRC
- Institut national de nanotechnologie
- Portail du réseau d'imagerie du CNRC
Secteurs industriels clés
Domaines scientifiques
Communautés
Carrières
Actualités
Événements
Personne-ressource
Jean Lapointe
Téléphone : 613-991-2613
Télécopieur : 613-990-0202
Courriel : Jean.Lapointe@nrc-cnrc.gc.ca
Ellipsomètre
Une partie de la lumière atteignant la surface d’un matériau est réfléchie alors que le reste est réfracté jusqu’à ce qu’il atteigne un interface où le même processus se répètera. La lumière réfléchie subit un changement de polarisation qui est représenté comme un rapport d’amplitude Psi et une différence de phase Delta. Un ellipsomètre est un instrument utilisé pour mesurer le changement de polarisation d’un faisceau lumineux réfléchi par un matériau afin de déterminer la composition du matériau, car le changement de polarisation dépend des propriétés optiques et de l’épaisseur de chaque matériau. Ainsi, l’ellipsométrie est utilisée couramment pour déterminer l’épaisseur et les constantes optiques de divers films, la rugosité de la surface, la proportion d’alliage, la concentration du dopage et d’autres propriétés des matériaux reliées à un changement optique. L’ellipsométrie est un outil de mesure basé sur un modèle. Après avoir mesuré un échantillon, un modèle est développé à partir de valeurs estimées des paramètres physiques de l’échantillon. Les valeurs actuelles de ces paramètres sont déterminées par l’utilisation d’un algorithme à régression itérative qui minimise les erreurs entre les données mesurées et les résultats du modèle en ajustant les paramètres physiques du modèle.
Les laboratoires de nanofabrication possèdent un ellipsomètre spectroscopique à angle variable Woollam VASE M2000 qui permet de mesurer le changement de polarisation en fonction de la longueur d‘onde et ce pour différents angles incidents. Le Woollam VASE M2000 couvre des longueurs d’onde de 300 nm à 1700 nm et des angles entre 40 ° et 90 °. La mesure est rapide, précise, non destructive et les spectres obtenus servent a caractériser le matériaux étudié. L’ellipsomètre est approprié pour mesurer des structures à couche unique ou multicouche d’épaisseurs allant de 1 nm à 10 µm. La source lumineuse produit un faisceau lumineux aligné d’un diamètre de 2-5 mm et des composants optiques de focalisation peuvent donner un faisceau de 150 µm de dimension. La platine horizontale accepte des échantillons de diverses tailles jusqu’à une plaquette de 150 mm (6 pouces). Généralement, des films diélectriques, de polymères et de semi-conducteurs sont mesurés, et des films métalliques très minces peuvent également être analysés.
