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Courriel : Jean.Lapointe@nrc-cnrc.gc.ca
Gravure par faisceau d'ions assistée chimiquement (CAIBE)
Le graveur par faisceau d’ions assisté chimiquement utilisé dans les laboratoires de nanofabrication est un Ionfab 300 d’Oxford Instruments. Le système peut effectuer la gravure par faisceau d’ions, par faisceau d’ions réactifs ou par faisceau d’ions assistée chimiquement. Cette dernière est le principal mode d’opération avec le chlore comme gaz réactif.
Ce système est utilisé pour graver divers matériaux : InP, GaAs, GaN, Al et Si (gravure inclinée). Il permet un contrôle indépendant des paramètres contrôlant les mécanismes chimiques et physiques responsables du procédé de gravure. De plus, le système a une capacité unique : l’inclinaison par rapport au faisceau d’ions permettant la gravure inclinée. Le système peut recevoir des pièces pouvant aller jusqu’à 75 mm. L’énergie ionique peut varier de 500 à 1000 eV et la température de 0 à 200 °C. Ce système a démontré une grande reproductibilité et une grande fiabilité au fil des ans.
