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Carrières
Renseignements : ISM-CNRC
Téléphone : 613-949-9660
Télécopieur : 613-957-8734
Courriel : ims.info@nrc-cnrc.gc.ca
installations de recherche d'Ottawa, chemin de Montréal
1200, chemin de Montréal
Ottawa,
Ontario,
K1A 0R6
Canada
Directives routières vers les installations de recherche d'Ottawa, chemin de Montréal
Installations de l'Institut des sciences des microstructures du CNRC
- Aligneurs de contacts (lithographie optique)
- Appareil de lithographie directe par faisceau d'électrons
- Caractérisation et analyse de matériaux semi-conducteurs
- Centre canadien de fabrication de dispositifs photoniques
- Conception et test de dispositifs semi-conducteur
- Déposition de matériaux semi-conducteurs et dérivés
- Déposition par couches atomiques
- Diffractomètre à rayons X haute résolution PANalytical MRD
- Ellipsomètre
- Ellipsomètre infrarouge spectroscopique à angle variable (ESAV-IR) pour l'infrarouge proche et moyen, équipé d'un cryostat, J.A. Woollam Co. (ISM)
- Ellipsomètre spectroscopique à angle variable (ESAV) pour le visible et le proche infrarouge, avec un accessoire cryostat, J.A. Woollam Co. (ISM)
- Évaporation des métaux
- Fabrication de matériaux semiconducteurs
- Gravure ionique réactive au plasma induit par haute fréquence (ICP RIE)
- Gravure par faisceau d'ions assistée chimiquement (CAIBE)
- L'incubation d'entreprises en technologie à l'ISM/ITI - IPI Ottawa
- Microscope électronique à balayage (MEB)
- Microscope électronique à émission de champ Hitachi S-4700
- Microscope électronique à transmission par émission de champ JEOL-JEM-2100F
- Microscope et spectromètre à balayage Auger
- Microscopie à force atomique
- Microscopie Raman
- Recuit thermique rapide
- Spectrométrie de masse d'émission ionique secondaire (SIMS)
- Spectrophotomètre Lambda 900 pour le visible et le proche infrarouge, avec accessoires, Perkin Elmer (ISM)
- Spectrophotomètre PE983 pour l'infrarouge proche et moyen, avec accessoire de mesure de réflectance, Perkin Elmer (ISM)
- Spectroscopie de photoélectrons XPS
- Stressomètre
- Système ADS de déposition par pulvérisation magnétron (ISM)
- Système BAK de deposition par évaporation (ISM)
- Système BAP à dépôt ionique (ISM)
- Système d'épitaxie par faisceaux chimiques de nanostructures (ISM)
- Système d'épitaxie par faisceaux chimiques III-V Riber 32P (ISM)
- Système d'épitaxie par faisceaux moléculaires d'arséniures V80 (ISM)
- Système d'épitaxie par faisceaux moléculaires d'arséniures V90 (ISM)
- Système d'épitaxie par faisceaux moléculaires des nitrures SVTA S35N (ISM)
- Systeme de dépôt en phase vapeur activé par plasma (PECVD)
- Système de dépôt par évaporation TSN (ISM)
- Système de diffraction des rayons X haute résolution Bruker D8 Discover
- Système de photolithographie sans masque
- Système de Pulvérisation à double faisceau ionique (DIBS) Spector (ISM)
